设备介绍

反应离子刻蚀机(RIE)

仪器预约

通过平板电极间施加射频电压,利用产生的等离子体对样品进行化学和物理刻蚀。

样品要求:半导体或者电介质材料

样片数量及尺寸:1片Ф6英寸

所用到气体:H2,CHF3,Ar2,O2,SF6等

主要用来等离子刻蚀除胶,去除掉不需要的部分。

图片9.jpg

RIE反应离子刻蚀机使用说明.pdf


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