设备介绍

原子层沉积系统(ALD)

仪器介绍:原子层沉积(ALD)是基于连续的气相表面反应,获得纳米级的、具有非常好的保型性和工艺可控性的单层或多层薄膜。

样品尺寸:6英寸

现有前驱体:HfO2,Al2O3

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原子层沉积系统设备使用说明-.pdf


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